Silikon Dioksit Çamur Ultrasonik Uzun Düzenleme Derin BCT püskürtme

Silikon Dioksit Çamur Ultrasonik Uzun Düzenleme Derin BCT püskürtme

Açıklama:

Silika çamurunun derin BCT püskürtmesi için çeşitli nozel konfigürasyonları vardır. BCT veya şırınga namlusunun çapına ve uzunluğuna göre özelleştirilebilen ultrasonik uzun nozel.Genel bir uygulama, pıhtılaşmayı hızlandırmak için bir silik kaplama püskürtmektir, ve silika hamuru, silika parçacıklarından oluşan tek tip ince bir film oluşturmak için ultrasonik bir nozzle ile boru duvarına püskürtür.

Silikon dioksit çamurlu ultrasonik uzun nozel derin BCT püskürtmesi, nozel üzerindeki yüksek frekanslı ultrasonik dalga titreşimleri ile herhangi bir silikon dioksit aglomeratını parçalayabilir.boru duvarındaki kaplamanın eşit şekilde dağıtılabilmesini sağlamakAynı zamanda, kaplama alanının gereksinimlerine göre, kaplama konumunu daha doğru bir şekilde kontrol etmek için yerel püskürtme yapılabilir.

Parametreler:

Genel yapılandırma:

1Viskozite ve katı madde içeriği: Tipik olarak, viskozite ≤ 30 cps'dir ve süspansiyonun katı madde içeriğinin %20-30'dan fazla olmaması gerekir.
2Sıvı kaynağı donanımı: hassas enjeksiyon pompası + biyolojik kalite numuneci, sıvı kaynağı doğruluğu 0.1uL/min
3Kuru film kalınlığı: 20nm-100um (ürünün substratına göre)
4Giriş voltajı: 220V ± 10%, 50-60Hz
5Çözüm dönüşüm oranı: ≥ 95%, kullanım oranı geleneksel iki sıvı basınç nozelinin birkaç katıdır
6. Atomlaştırılmış parçacık boyutu: Ortalama değer 15-45 μ m'dir, esas olarak nozel frekansına bağlıdır.
7. nozzle frekansı: 30-200KHz arasında değişen birden fazla nozzle sistemi ile donatılabilir

Silikon Dioksit Çamur Ultrasonik Uzun Düzenleme Derin BCT püskürtme